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Pionierforschung an neuen Hochleistungs­halbleitern

Jahrestreffen des Leibniz-Wissenschafts­Campus GraFOx

Ob für Hochspannungsschalter oder Touchscreens – Oxide zählen zu den Materialien, die aktuell für die Elektronik entdeckt und erforscht werden. Funktional vielfältiger als Silizium eignen sie sich besonders für die Entwicklung neuartiger elektronischer Bauelemente und Energieanwendungen mit herausragender Leistungsfähigkeit. Mit dem Leibniz-WissenschaftsCampus GraFOx, den das Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik (PDI) koordiniert, setzt die Leibniz-Gemeinschaft klare Akzente für diese Pionierforschung. Beim ersten Jahrestreffen vom 20. bis 21. Juli 2017 in Berlin-Adlershof treffen internationale Koryphäen der Oxidforschung mit der lokalen Forschungsszene zusammen, um das Material für die Technologien der Zukunft zu diskutieren. 

 

Vier prominente Sprecher beleuchten beim Symposium die Vielfalt der Oxidforschung – von fundierter theoretischer Modellbildung über originelle Halbleiter-Oxidschichten bis hin zu Transistoren für die Leistungselektronik. Hierzu zählen Prof. Su-Huai Wei vom Beijing Computational Science Research Center in China, Prof. Darrell Schlom von der Cornell University und Dr. Gregg Jessen vom Air Force Research Laboratory, Dayton, in den USA sowie PD Dr. Marcel Himmerlich von der Technischen Universität Ilmenau.

 

Die Jahrestagung des WissenschaftsCampus GraFOx (Growth and Fundamentals of Oxides for electronic applications) zeigt dabei nicht nur Oxid-Spitzenforschung auf dem neuesten Stand, sondern auch, wie moderne Forschung gestaltet werden kann: Der WissenschaftsCampus ist interdisziplinär orientiert, kooperativ organisiert und regional verankert – er verbindet bei GraFOx zwei Leibniz-Institute, ein Max-Planck-Institut und zwei Universitäten aus Berlin. Die Ausbildung von Wissenschaftlerinnen und Wissenschaftlern hat einen hohen Stellenwert – bei GraFOx gibt es 15 Teilprojekte, in denen auch jeweils eine Doktorandin oder ein Doktorand arbeitet.

 

Prof. Henning Riechert, Direktor des PDI und GraFOx-Sprecher, erklärt: „Wir sind Pfadfinder – mit dem WissenschaftsCampus GraFOx können wir grundlegende Materialforschung, konkret zu Oxiden, betreiben. Diese Freiheit und die Zusammenarbeit zwischen exzellenten Partnern ist ein Glücksfall und ermöglicht uns hochklassige, innovative Forschung.“

 

In einem WissenschaftsCampus fördert die Leibniz-Gemeinschaft eine thematisch fokussierte regionale Kooperation von Leibniz-Einrichtungen, Hochschulen und weiteren Partnern. So wird die Forschung vor Ort gestärkt und die räumliche Nähe ermöglicht eine besonders enge Zusammenarbeit. An GraFOx sind das PDI, das Leibniz-Institut für Kristallzüchtung, das Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft sowie die Humboldt-Universität zu Berlin und die Technische Universität Berlin beteiligt. GraFOx startete am 1. Juli 2016. Zunächst sind vier Jahre bewilligt mit der Option, eine Verlängerung um weitere vier Jahre zu erreichen.

 

Weitere Informationen

 

WissenschaftsCampus GraFOx: http://grafox.pdi-berlin.de/

Programm der Jahrestagung: https://owncloud.pdi-berlin.de/owncloud/index.php/s/mdTZI0q9D7Fa38t

Leibniz-WissenschaftsCampi: https://www.leibniz-gemeinschaft.de/forschung/leibniz-wissenschaftscampi/

 

Presseeinladung

 

Medienvertreterinnen und -vertreter sind herzlich zum Symposium am 20. Juli, 9:30 bis 12:45 Uhr, im Erwin-Schrödinger-Zentrum, Rudower Chaussee 26, 12489 Berlin-Adlershof, eingeladen. Wir bitten um eine Anmeldung in der FVB-Pressestelle - entweder per E-Mail unter presse@fv-berlin.de oder telefonisch unter 030/6392-3337.

 

Kontakt:

 

Prof. Dr. Henning Riechert

Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik (PDI)

Leibniz-Institut im Forschungsverbund Berlin e.V.

Hausvogteiplatz 5-7

10117 Berlin

Tel. 030 20377-365

grafox@pdi-berlin.de

 

Anja Wirsing

Pressereferentin

Forschungsverbund Berlin e.V.

Rudower Chaussee 17

12489 Berlin

Tel. 030 6392-3337 

wirsing@fv-berlin.de

 

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