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PDI erhält EFRE-Förderung für Echtzeit-Röntgendiffraktionslabor

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Bild: Schwerlastdiffraktometer mit Wachstumskammer für In-situ-Wachstumsstudien (PDI/AI)

Das Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik (PDI) erhält eine Förderung aus dem Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) zum Aufbau eines neuen Anwendungslabors für die Echtzeit-Charakterisierung fortschrittlicher Materialien mittels Röntgendiffraktion. Das Labor mit dem Namen GISEH (Grazing Incidence Diffraction at Epitaxial Heterointerfaces) schafft eine einzigartige Forschungs- und Innovationsinfrastruktur, die Industrie- und Wissenschaftspartnern direkten Zugang zu modernen Röntgendiffraktionstechniken zur Charakterisierung neuartiger Materialien und Heterostrukturen bietet.

Die Entwicklung von Halbleiter-, Quanten- und Funktionsmaterialien der nächsten Generation erfordert eine präzise strukturelle Charakterisierung, idealerweise in Echtzeit während des Wachstumsprozesses und unter Betriebsbedingungen. Solche Untersuchungen erfordern üblicherweise den Zugang zu Großforschungseinrichtungen wie BESSY II oder PETRA III, doch die damit verbundenen Antragsverfahren und Vorlaufzeiten – oft mehr als zwölf Monate – stellen insbesondere für KMU und Deep-Tech-Start-ups erhebliche Hürden dar. GISEH begegnet dieser Herausforderung, indem es hochauflösende In-situ-Diffraktionsmessungen mit minimaler Probenvorbereitung und kurzen Durchlaufzeiten ermöglicht und damit schnelle Iterationszyklen eröffnet, die vielen potenziellen Nutzern bislang verwehrt blieben.

Die langjährige Erfahrung des PDI im Betrieb des PHARAO-Synchrotronexperiments an BESSY II sowie regelmäßige Experimente an der ESRF und an PETRA III bilden die Grundlage für die erfolgreiche Umsetzung dieses Projekts. Die daraus entstehenden Kooperationen mit Industriepartnern fördern den Transfer wissenschaftlicher Erkenntnisse in wirtschaftlich relevante Anwendungen, stärken die regionale Innovationskraft und unterstützen zugleich die Weiterentwicklung führender Methoden in der Grundlagenforschung. Auf diese Weise trägt GISEH zur regionalen Halbleiterkompetenz, zum Technologietransfer zwischen Wissenschaft und Industrie sowie zum Aufbau nachhaltiger Netzwerke zwischen Forschungseinrichtungen und KMU in Berlin und Brandenburg bei.